脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition, PLD）, 是一種利用激光對物體進行轟擊, 然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上, 得到沉淀或者薄膜的一種手段. PLD 系統由多個真空腔體組成, 整個系統需要超高真空; 由于各個輔助腔體, 體積小, 因此使用HiCube 80真空泵組非常實用.
該PLD系統用到德國Pfeiffer 真空泵數量:
1. HiCube 80*7
2. Hipace 300*2
該脈沖激光沉積系統基本規格:
1.系統功能：主要用于制備有機自旋閥器件，還可用于制備有機發光二極管、太陽能電池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.樣品尺寸：直徑2’’
4.基板加熱溫度：1000度
5.鍍膜方式：Effusion Cell/Plasma Cell
6.膜生長控制模式：鍍率/厚度/時間控制模式
我公司是德國普發授權代理商。伯東真空主營產品德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管); 氦質譜檢漏儀；質譜分析儀；真空鍍膜機,真空系統以及HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機. CTI 低溫泵和美國KRI 離子源.Gamma離子泵。離子刻蝕機等
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